ASML HOLDING WKN: A1J4U4 ISIN: NL0010273215 Kürzel: ASML Forum: Aktien Thema: Hauptdiskussion

Ja aber selbst diese werden nur zu einem winzigen Teil in Japan gefertigt. Niemand außer Zeiss kann 193nm und 13,5 Nm Optik/Spiegel/Kollektoren fertigen.

EUV ist natürlich ein spannendes Thema, man darf den duv Bereich auch nicht vergessen. Immerhin gibt es auf dem Markt für weniger komplexe Strukturen Konkurrenz

Sehr ich erstmal genauso. Die Chinesen versuchen das seit Ewigkeiten und haben es nicht geschafft. Während sie problemlos zum Mond fliegen könnten. Also so einfach kann es nicht sein wenn es wahrscheinlich komplexer ist als ein Weltraumprogramm. :)

Das ist doch nur eine Ergänzung von Applied Materials. EUV bietet allein ASML an, kein anderer Mitbewerber forscht im kommerziellen Sinn an EUV. Es ist schlicht nicht zu kopieren. Viel zu komplex. Es waren über 10 Jahre Forschung dreier Firmen (Zeiss, Trumpf, ASML) nötig.

Chiphersteller können jetzt ein einzelnes EUV-Muster drucken und dann das Sculpta-System verwenden, um die Formen in eine beliebige Richtung zu verlängern, um den Abstand zwischen Merkmalen zu verringern und die Musterdichte zu erhöhen.

https://ir.appliedmaterials.com/news-releases/news-release-details/applied-materials-new-ebeam-metrology-system-paves-way-high-na

https://ir.appliedmaterials.com/news-releases/news-release-details/applied-materials-innovative-pattern-shaping-technology-reduces

Das sind doch zwei unterschiedliche Themen:

https://m-de.marketscreener.com/kurs/aktie/APPLIED-MATERIALS-INC-4850/news/Applied-Materials-Inc-stellt-ein-neues-eBeam-Metrologie-System-vor-43122638/ Es handelt sich nicht um eine Alternative zu den EUV Systemen. Applied Materials, Inc. hat ein neues eBeam-Metrologiesystem vorgestellt, das speziell für die präzise Messung der kritischen Abmessungen von Halbleiterbauteilen entwickelt wurde, die mit EUV- und der neuen High-NA EUV-Lithographie strukturiert wurden. Chiphersteller verwenden CD-SEMs (Rasterelektronenmikroskope für kritische Dimensionen), um Sub-Nanometer-Messungen von Mustern vorzunehmen, sobald ein Lithografie-Scanner diese von einer Maske auf einen Fotolack übertragen hat. Mit diesen Messungen wird die Leistung des Lithografieprozesses kontinuierlich kalibriert, um sicherzustellen, dass die Muster korrekt sind, bevor sie in den Wafer geätzt werden.

http://www.businesskorea.co.kr/news/articleView.html?idxno=110330

Vereinigte Staaten brechen das Monopol von ASML bei EUV-Lithografieanlagen Von Michael Herh 3. März 2023, 10:54 Teilen Drucken E-Mail Schriftarten Der Vorsitzende von Samsung Electronics, Lee Jae-yong, besuchte ASML im Oktober 2020. Applied Materials hat Intel am 1. März sein VeritySEM 10-System geliefert. "Mit dieser Anlage zur Herstellung von Halbleiterchips kann die EUV-Lithografie vereinfacht und die Kosten auf umweltfreundliche Weise gesenkt werden", hieß es. Vor der Lieferung war ASML der einzige Anbieter von EUV-Lithographieanlagen weltweit. Die Anlagen des niederländischen Unternehmens zeichnen sich dadurch aus, dass sie eine doppelte Strukturierung, d. h. ein doppeltes Ätzen des Substrats, erfordern, was einen höheren Wasser- und Stromverbrauch sowie einen längeren Prozess mit sich bringt. Die Anlagen von Applied Materials basieren auf einer einfachen Strukturierung. "Unter der Annahme, dass 100.000 Wafer pro Monat mit VeritySEM 10 bearbeitet werden, können Kosten in Höhe von 250 Millionen US-Dollar eingespart werden, indem 50 US-Dollar und 15 kW Strom pro Wafer eingespart werden", erklärte das Unternehmen und fügte hinzu: "Der Wasserverbrauch und die Kohlendioxidemissionen pro Wafer sinken um 15 Liter bzw. 0,35 kg." Branchenkreisen zufolge steht das Monopol von ASML kurz vor dem Ende und die Präsenz der USA in verschiedenen Halbleiterindustrien wird zunehmen. "Die Vereinigten Staaten internalisieren zunehmend diese Industrien, einschließlich Materialien, Komponenten und Ausrüstung sowie Design und Herstellung, um ihren Einfluss in der Branche zu stärken", sagte einer von ihnen.

Wie steht ihr denn hierzu? Kann das gefährlich für Asml werden?

Alle wieder rein hier. 🚀🚀🚀

Der Artikel beschreibt sehr gut, dass es eine super Ergänzung für EUV Systeme ist, um Produktionskosten zu senken. Daher sehe ich hier keine kritische Alternative zum Geschäftsmodell.