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AIXTRON WKN: A0WMPJ ISIN: DE000A0WMPJ6 Kürzel: AIXA Forum: Aktien Thema: Hauptdiskussion

Kurs AIXTRON
16,10 USD
+5,23 %+0,80
24. Dec, 17:03:18 Uhr, Nasdaq OTC
Kommentare 76.928
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RolliRolle, 14. Dez 12:39 Uhr
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Wohin geht's ? 😂

Käseraspel, 14. Dez 12:29 Uhr
Port Douglas
Käseraspel
Käseraspel, 14. Dez 12:29 Uhr
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Wir auch , zwar ohne Gewinne aus Investitionen aber die werden wir bald haben 😅

RolliRolle, 14. Dez 12:21 Uhr
Wohin geht's ? 😂
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RolliRolle, 14. Dez 12:22 Uhr
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ab 11:15 wird's interessant... https://www.ardmediathek.de/video/lokalzeit-aus-aachen/lokalzeit-aus-aachen-oder-13-12-2024/wdr-aachen/Y3JpZDovL3dkci5kZS9CZWl0cmFnLXNvcGhvcmEtOWI5MjRiNWMtMmMyNy00MWYxLWEzZWItNjM4OGViN2E2MjQ1

antidemo, 14. Dez 12:07 Uhr
Motiviert mich weiter dabei und dran zu bleiben . Stolz das ein Teil der Firma mir gehört 🤣
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RolliRolle, 14. Dez 12:21 Uhr
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Ist mir jetzt mal wurscht! Ich hau nächste Woche ab ins Warme... Wünsche euch ein erholsames Wochenende und schöne Weihnachten 🫠 Bis demnächst

Käseraspel, 13. Dez 21:15 Uhr
Wir auch , zwar ohne Gewinne aus Investitionen aber die werden wir bald haben 😅
antidemo
antidemo, 14. Dez 12:07 Uhr
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ab 11:15 wird's interessant... https://www.ardmediathek.de/video/lokalzeit-aus-aachen/lokalzeit-aus-aachen-oder-13-12-2024/wdr-aachen/Y3JpZDovL3dkci5kZS9CZWl0cmFnLXNvcGhvcmEtOWI5MjRiNWMtMmMyNy00MWYxLWEzZWItNjM4OGViN2E2MjQ1
Käseraspel
Käseraspel, 13. Dez 21:15 Uhr
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Zum Kursverlauf. Glaubt noch jemand wie ich, dass die 15 als Marke für den nächsten Freitag, dem grossen Verfallstag, auserkoren ist ? Den Eindruck habe ich jedenfalls.

Mungo39, 13. Dez 16:03 Uhr
Ist mir jetzt mal wurscht! Ich hau nächste Woche ab ins Warme... Wünsche euch ein erholsames Wochenende und schöne Weihnachten 🫠 Bis demnächst
Mungo39
Mungo39, 13. Dez 16:03 Uhr
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Zum Kursverlauf. Glaubt noch jemand wie ich, dass die 15 als Marke für den nächsten Freitag, dem grossen Verfallstag, auserkoren ist ? Den Eindruck habe ich jedenfalls.
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RolliRolle, 13. Dez 15:08 Uhr
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Reinräume sind spezielle Umgebungen, die so gestaltet sind, dass sie eine extrem niedrige Konzentration von Partikeln in der Luft aufweisen. Diese Technologie wird häufig in der Halbleiterfertigung, der Pharmaindustrie und der Biotechnologie eingesetzt, wo selbst kleinste Verunreinigungen zu Problemen führen können. Die wichtigsten Technologien und Komponenten, die in Reinräumen verwendet werden, sind: 1. Luftfiltration: Hochleistungsfilter, wie HEPA- oder ULPA-Filter, werden eingesetzt, um Partikel aus der Luft zu entfernen. Diese Filter können bis zu 99,99 % der Partikel mit einer Größe von 0,3 Mikrometern oder größer herausfiltern. 2. Luftstromkontrolle: Reinräume nutzen kontrollierte Luftströme, um die Verbreitung von Partikeln zu minimieren. Dies geschieht oft durch laminar strömende Luft, die gleichmäßig und in einer Richtung durch den Raum geleitet wird. 3. Druckkontrolle: Reinräume werden oft unter Überdruck gehalten, um zu verhindern, dass kontaminierte Luft von außen eindringt. Dies wird durch spezielle Türen und Dichtungen erreicht. 4. Materialien und Oberflächen: Die Wände, Böden und Decken von Reinräumen sind aus glatten, nicht porösen Materialien gefertigt, die leicht zu reinigen sind und keine Partikel abgeben. 5. Zugangskontrollen: Um die Reinheit zu gewährleisten, gibt es strenge Protokolle für den Zugang zu Reinräumen. Dies kann das Tragen spezieller Schutzkleidung, das Durchlaufen von Schleusen und das Einhalten von Hygienemaßnahmen umfassen. 6. Monitoring-Systeme: Sensoren und Überwachungssysteme werden eingesetzt, um die Luftqualität, Temperatur und Feuchtigkeit in Echtzeit zu überwachen und sicherzustellen, dass die Bedingungen den erforderlichen Standards entsprechen. Diese Technologien arbeiten zusammen, um eine kontrollierte Umgebung zu schaffen, die für empfindliche Prozesse und Produkte unerlässlich ist

RolliRolle, 13. Dez 15:08 Uhr
Vielen Dank an chat gpt
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RolliRolle, 13. Dez 15:08 Uhr
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Reinräume sind spezielle Umgebungen, die so gestaltet sind, dass sie eine extrem niedrige Konzentration von Partikeln in der Luft aufweisen. Diese Technologie wird häufig in der Halbleiterfertigung, der Pharmaindustrie und der Biotechnologie eingesetzt, wo selbst kleinste Verunreinigungen zu Problemen führen können. Die wichtigsten Technologien und Komponenten, die in Reinräumen verwendet werden, sind: 1. Luftfiltration: Hochleistungsfilter, wie HEPA- oder ULPA-Filter, werden eingesetzt, um Partikel aus der Luft zu entfernen. Diese Filter können bis zu 99,99 % der Partikel mit einer Größe von 0,3 Mikrometern oder größer herausfiltern. 2. Luftstromkontrolle: Reinräume nutzen kontrollierte Luftströme, um die Verbreitung von Partikeln zu minimieren. Dies geschieht oft durch laminar strömende Luft, die gleichmäßig und in einer Richtung durch den Raum geleitet wird. 3. Druckkontrolle: Reinräume werden oft unter Überdruck gehalten, um zu verhindern, dass kontaminierte Luft von außen eindringt. Dies wird durch spezielle Türen und Dichtungen erreicht. 4. Materialien und Oberflächen: Die Wände, Böden und Decken von Reinräumen sind aus glatten, nicht porösen Materialien gefertigt, die leicht zu reinigen sind und keine Partikel abgeben. 5. Zugangskontrollen: Um die Reinheit zu gewährleisten, gibt es strenge Protokolle für den Zugang zu Reinräumen. Dies kann das Tragen spezieller Schutzkleidung, das Durchlaufen von Schleusen und das Einhalten von Hygienemaßnahmen umfassen. 6. Monitoring-Systeme: Sensoren und Überwachungssysteme werden eingesetzt, um die Luftqualität, Temperatur und Feuchtigkeit in Echtzeit zu überwachen und sicherzustellen, dass die Bedingungen den erforderlichen Standards entsprechen. Diese Technologien arbeiten zusammen, um eine kontrollierte Umgebung zu schaffen, die für empfindliche Prozesse und Produkte unerlässlich ist
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RolliRolle, 13. Dez 15:05 Uhr
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Ruf doch mal an und frag. Nicht immer hier motzen. Mal Herrn **** anrufen und mal eine Konversation führen und uns danach alles mitteilen

Thoken88, 13. Dez 13:40 Uhr
Statt sich mit der Technik, wie beispielsweise dem Lüftungssystem, auseinanderzusetzen, wird lieber viel geredet.
Thoken88
Thoken88, 13. Dez 13:40 Uhr
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1000 qm2 --> 100 Millionen Invest. Haben die Goldwasserhähne installiert?

microklink, 13. Dez 12:14 Uhr
Ruf doch mal an und frag. Nicht immer hier motzen. Mal Herrn **** anrufen und mal eine Konversation führen und uns danach alles mitteilen
Käseraspel
Käseraspel, 13. Dez 12:54 Uhr
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1000 qm2 --> 100 Millionen Invest. Haben die Goldwasserhähne installiert?

microklink, 13. Dez 12:14 Uhr
Das ist keine Scheune, sondern ein hochtechnologisierter Reinraum!
m
microklink, 13. Dez 12:25 Uhr
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Q4 ist gelaufen, könnte ja mal ein Indikation abgegeben werden um die Shorties nervös zu machen!
m
microklink, 13. Dez 12:14 Uhr
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1000 qm2 --> 100 Millionen Invest. Haben die Goldwasserhähne installiert?
m
microklink, 13. Dez 12:12 Uhr
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sehr beeindruckendes Beispiel, wenn man den Kursverlauf heranzieht!
m
microklink, 13. Dez 12:11 Uhr
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Spatenstich und Baubeginn des hochmodernen Komplexes, in den AIXTRON aus eigener Kraft rund 100 Millionen Euro investiert, war im November 2023. Das High-Tech-Gebäude ist ausgelegt auf den nächsten großen Schritt in der Verbindungshalbleitertechnik: den wichtigen Übergang auf 300-mm-Wafer für GalliumNitrid (GaN) und weitere Verbindungshalbleiteranwendungen. Das Materialsystem GaN, in dem AIXTRON Technologieführer ist, kommt aufgrund der überragenden Materialeigenschaften in immer mehr Leistungselektronik zum Einsatz. GaN-basierte Halbleiterbauelemente steigern die Leistungsfähigkeit von Ladegeräten in der Unterhaltungselektronik, ermöglichen eine effiziente Stromwandlung im Bereich erneuerbarer Energie und eine energiesparende Stromversorgung von Servern und Rechenzentren. Dies hilft beispielsweise auch bei den Anwendungen für die künstliche Intelligenz, die sich gerade rasant verbreiten, denn diese benötigen sehr viel Energie. Um sich auf diese Nachfrage vorzubereiten, treibt AIXTRON die Entwicklung der 300-mm-Depositionstechnologie voran. Der größere Waferdurchmesser bietet Kunden einen Flächenvorteil von Faktor 2,25 gegenüber den aktuell verwendeten 200-mm-Wafern. Darüber hinaus können die Kunden ihre bestehenden 300-mm-Fabriken und Anlagen erstmals für die Herstellung von Verbindungshalbleitern benutzen. Dadurch wird die Herstellung von GaN-Halbleiterbauelementen nicht nur kostengünstiger, sondern bietet perspektivisch auch Möglichkeiten für technologische Leistungssteigerungen. „Mit der 300-mm-Wafertechnologie bringen wir zum ersten Mal Verbindungshalbleiter in den Mainstream der Halbleiterherstellung. Das Innovationszentrum ist ein wichtiges Element unserer Strategie, da es den Platz und die technischen Voraussetzungen für Technologien der nächsten Generation bietet. Der Schritt hin zu 300 mm bei Verbindungshalbleitern ist ein Meilenstein, der in den kommenden Jahren zahlreiche Wachstumsmöglichkeiten für die Branche eröffnen wird“, erklärt Professor Dr. Michael Heuken, Vice President Advanced Technologies bei AIXTRON.
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