AIXTRON WKN: A0WMPJ ISIN: DE000A0WMPJ6 Kürzel: AIXA Forum: Aktien Thema: Hauptdiskussion
14,66 USD
+1,10 %+0,16
16. Nov, 02:10:00 Uhr,
Nasdaq OTC
Kommentare 75.993
kYb,
25.04.2024 9:08 Uhr
0
schade, dass die angekündigte Kursexplosion eher verhalten bis bescheiden ausfällt.
MAXimumBörse,
25.04.2024 9:08 Uhr
1
Bärenfalle kann aixi
T
Tim1980,
25.04.2024 9:07 Uhr
0
Hab auch nochmal kräftig nachgelegt
Tapir6,
25.04.2024 9:07 Uhr
1
bin sehr sehr zuversichtlich - dass wir auf Sicht wieder deutlich bessere Kurse sehen werden
OstholsteinerJung,
25.04.2024 9:06 Uhr
0
Danke für den Dip. Nochmal nachgelegt 😎📈
Tapir6,
25.04.2024 9:05 Uhr
2
heute dürfte mal wieder sehr volatil werden - das übliche austarieren zwischen Käufern und Verkäufern / Leerverkäufern - insgesamt sind die neuen Daten zum Unternehmen doch beruhigend nach den wilden (unbegründeten) Gerüchten der letzten Wochen und Monate - insofern sollte sich der Kurs stabilisieren können und auch wieder mehr Käufer finden meiner Meinung nach.
e
echiel,
25.04.2024 9:05 Uhr
0
Die letzte Shortattacke hier und ab dann werden sie sich zurückziehen
b
bullproof,
25.04.2024 9:05 Uhr
0
Würde mich nicht wundern, wenn es noch mal auf 22 geht, bis es weiter steigt. Aufschwung ist auf jeden Fall erkennbar. Warum sollte es auch noch tiefer gehen.
e
echiel,
25.04.2024 9:03 Uhr
0
Das könnten viele Aktien beflügeln
e
echiel,
25.04.2024 9:03 Uhr
0
Hoffen wir mal dass das Wachstumspaket durchgewunken wird
Loony,
25.04.2024 9:02 Uhr
0
Spannung jönge!
MRO1234,
25.04.2024 9:02 Uhr
0
STMicroelectronics: - zeitweise - 10% , Infineon -3,5 % Stimmung drückt . Zahlen besser als befürchtet
B
Besm,
25.04.2024 9:01 Uhr
0
Politiker unterstützen Aktienkurse eigentlich echt viel in Deitschland… zumindest manchmal. Siehe Wirecard. (Humor bitte)
O
Tapir6,
25.04.2024 8:59 Uhr
0
https://evertiq.de/design/31923
Markt | 25 April 2024
Vishay setzt auf Technologie von AIXTRON
Redakteur: Christian Schewe
Vishay Intertechnology, Inc. hat sich für die G10-SiC von AIXTRON entschieden, um die eigenen Kapazitäten im Bereich SiC-Epitaxie zur Produktion von Leistungsbauelementen hochzufahren. Die Lösung von AIXTRON soll künftig in Vishays automotive-zertifizierter Newport-Fabrik in Südwales zum Einsatz kommen.
Die flexible Konfiguration der G10-SiC mit 9x150 mm oder 6x200 mm Wafern unterstütze den einfachen Wechsel zu größeren Wafer-Durchmessern, heißt es dazu in einer Mitteilung.
Vishay ist nach eigenen Angaben einer der weltweit größten Hersteller von diskreten Halbleitern und passiven elektronischen Komponenten. Diese Bauteile kommen in den Bereichen Industrie, Computer, Automobil, Konsumgüter, Telekommunikation, Luft- und Raumfahrt, Stromversorgung und Medizintechnik in allen Arten von elektronischen Geräten und Systemen zum Einsatz.
„Die neue G10-SiC Epi-Produktionsanlage für die 200 mm Epitaxie ermöglicht eine hervorragende Kostenstruktur, die den Produktivitätszielen von Vishay entspricht. Dies in Kombination mit einer exzellenten Gleichförmigkeit über den gesamten 200-mm-Waferdurchmesser hinweg hat uns dazu veranlasst, AIXTRON-Technologie zu wählen. Das AIXTRON-Team hat eine einzigartige Lösung für präzise Kontrolle von Dotierstoffen und Schichtdicken auf 200 mm SiC-Wafern entwickelt“, sagt Danilo Crippa, Senior Director R&D für SiC-Entwicklung, Vishay Intertechnology, Inc.
„Wir freuen uns über die Gelegenheit, eng mit Vishay zusammenzuarbeiten und unser hochmodernes Epi-Produktionssystem mit flexibler 150 und 200 mm-SiC-Waferkonfiguration für Vishays automotive-zertifizierte Fabrik in Newport (Südwales) zu liefern. Unser starkes Kundenservice-Team im South Wales Compound Semiconductor Cluster unterstützt Vishay dabei, die SiC-Inhouse-Epitaxie in kürzester Zeit auf höchste Produktivität zu bringen“, so Dr. Frank Wischmeyer, Vice President SiC, AIXTRON SE.
Seit ihrer Markteinführung im September 2022 habe sich AIXTRONs G10-SiC-Anlage schnell zur führenden Anlage für 150 mm- und 200 mm-SiC-Epitaxie entwickelt, heißt es in der Mitteilung weiter. Dank der neuesten technologischen Fortschritte biete die Anlage erstklassige Uniformität in Kombination mit dem höchsten Wafer-Durchsatz pro Quadratmeter Reinraumfläche auf dem Markt. Damit ermögliche sie die Produktion von SiC-Leistungsbauelementen zu den niedrigsten Betriebskosten.
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